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1、pecvd有哪幾種設(shè)備?
很多。。目前國內(nèi)用的基本上都是管式PE設(shè)備。但也有很多進口的平板的。而管式PE的有45也有青島賽瑞達 等很多 要不我給***個網(wǎng)站 注冊進去那里面全關(guān)于太能能方面的專業(yè)知識。請自帶高分！》。。
薄膜沉積設(shè)備：PECVD、LPCVD與ALD的奧秘與應(yīng)用 薄膜沉積技術(shù)，如同半導體制造**上的璀璨明珠，它是在硅基襯底上添加一層功能性膜的精密過程。這層膜可以是硅、二氧化硅、銅等，每一種都承載著特定的性能需求。在半導體的精密制造鏈中，薄膜制備工藝是前***工序的靈魂。
薄膜沉積設(shè)備，如PVD（物理氣相沉積）、CVD（化學氣相沉積）、PECVD（等離子體增***化學氣相沉積）和ALD（原子層沉積），每一種都是半導體制造過程中的璀璨明珠，各有其獨特的魅力和應(yīng)用范圍。
PECVD設(shè)備主要由真空和壓力控制系統(tǒng)、淀積系統(tǒng)、氣體及流量控制、系統(tǒng)安全保護系統(tǒng)、計算機控制等部分組成。其設(shè)備結(jié)構(gòu)框圖如圖2所示。1真空和壓力控制系統(tǒng) 真空和壓力控制系統(tǒng)包括機械泵、分子泵、粗抽閥、前級閥、閘板閥、真空計等。
拓荊 科技 是國內(nèi)唯一一家能夠產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用離子體增***化學氣相沉積（PECVD）設(shè)備、次常壓化學氣相沉積（SACVD）設(shè)備的廠商，也是國內(nèi)領(lǐng)先的原子層沉積（ALD）設(shè)備廠商。
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